鈦板,鈦棒表面反應(yīng)層是影響鈦工件理化性能的主要因素,在加工前,必須達(dá)到完全去除表面污染層及缺陷層。鈦板及鈦棒表面拋光工藝的物理機(jī)械拋光:
1、噴砂
鈦絲 鑄件的噴砂處理一般選用白剛玉噴較好,噴砂的壓力要比非貴金屬者較小,一般控制在0.45MPa以下。因?yàn)椋瑖娚鋲毫^大時(shí),砂粒沖擊鈦表面產(chǎn)生激烈火花,溫度升高可與鈦表面發(fā)生反應(yīng),形成二次污染,影響表面質(zhì)量。時(shí)間為15-30秒,僅去除鑄件表面的粘砂,表面燒結(jié)層和部分氧化層即可。其余的表面反應(yīng)層結(jié)構(gòu)宜采用化學(xué)酸洗的方法快速去除。
2、酸洗
酸洗能夠快速完全去除表面反應(yīng)層,而表面不會(huì)產(chǎn)生其他元素的污染。HF-HCL系和HF-HNO3系酸洗液都可用于鈦的酸洗,但HF-HCL系酸洗液吸氫量較大,而HF-HNO3系酸洗液吸氫量小,可控制HNO3的濃度減少吸氫,并可對(duì)表面進(jìn)行光亮處理,一般HF的濃度在3%-5%左右,HNO3的濃度在15%-30%左右為宜。
鈦板及鈦棒表面反應(yīng)層通過噴砂后酸洗的方法可完全去除鈦的表面反應(yīng)層。
鈦板及鈦棒表面反應(yīng)層除物理機(jī)械拋光外還有兩種,分別為:1.化學(xué)拋光,2.電解拋光。
1、化學(xué)拋光
化學(xué)拋光時(shí)通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的氧化還原反應(yīng)而達(dá)到整平拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān),凡與拋光液接觸的部位均被拋光,不須特殊復(fù)雜設(shè)備,操作簡(jiǎn)便,較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學(xué)拋光的工藝參數(shù)較難控制,要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光效果。較好的鈦化學(xué)拋光液是HF和HNO3按一定比例配制,HF是還原劑,能溶解鈦金屬,起到整平作用,濃度<10%,HNO3起氧化作用,防止鈦的溶解過度和吸氫,同時(shí)可產(chǎn)生光亮作用。鈦拋光液要求濃度高,溫度低,拋光時(shí)間短(1~2min)。
2、電解拋光
又稱為電化學(xué)拋光或者陽(yáng)極溶解拋光,由于鈦合金管的電導(dǎo)率較低,氧化性能極強(qiáng),采用有水酸性電解液如HF-H3PO4、HF-H2SO4系電解液對(duì)鈦幾乎不能拋光,施加外電壓后,鈦陽(yáng)極立刻發(fā)生氧化,而使陽(yáng)極溶解不能進(jìn)行。但采用無水氯化物電解液在低電壓下,對(duì)鈦有良好的拋光效果,小型試件可得到鏡面拋光,但對(duì)于復(fù)雜修復(fù)體仍不能達(dá)到完全拋光的目的,也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題,還有待于進(jìn)一步研究。
鈦板,鈦棒表面反應(yīng)層是影響鈦工件理化性能的主要因素,在加工前,必須達(dá)到完全去除表面污染層及缺陷層。鈦板及鈦棒表面拋光工藝的物理機(jī)械拋光:
1、噴砂
鈦絲鑄件的噴砂處理一般選用白剛玉噴較好,噴砂的壓力要比非貴金屬者較小,一般控制在0.45MPa以下。因?yàn)?,噴射壓力過大時(shí),砂粒沖擊鈦表面產(chǎn)生激烈火花,溫度升高可與鈦表面發(fā)生反應(yīng),形成二次污染,影響表面質(zhì)量。時(shí)間為15-30秒,僅去除鑄件表面的粘砂,表面燒結(jié)層和部分氧化層即可。其余的表面反應(yīng)層結(jié)構(gòu)宜采用化學(xué)酸洗的方法快速去除。
鈦板
2、酸洗
酸洗能夠快速完全去除表面反應(yīng)層,而表面不會(huì)產(chǎn)生其他元素的污染。HF-HCL系和HF-HNO3系酸洗液都可用于鈦的酸洗,但HF-HCL系酸洗液吸氫量較大,而HF-HNO3系酸洗液吸氫量小,可控制HNO3的濃度減少吸氫,并可對(duì)表面進(jìn)行光亮處理,一般HF的濃度在3%-5%左右,HNO3的濃度在15%-30%左右為宜。
鈦板及鈦棒表面反應(yīng)層通過噴砂后酸洗的方法可完全去除鈦的表面反應(yīng)層。
鈦板及鈦棒表面反應(yīng)層除物理機(jī)械拋光外還有兩種,分別為:1.化學(xué)拋光,2.電解拋光。
1、化學(xué)拋光
化學(xué)拋光時(shí)通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的氧化還原反應(yīng)而達(dá)到整平拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān),凡與拋光液接觸的部位均被拋光,不須特殊復(fù)雜設(shè)備,操作簡(jiǎn)便,較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學(xué)拋光的工藝參數(shù)較難控制,要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光效果。較好的鈦化學(xué)拋光液是HF和HNO3按一定比例配制,HF是還原劑,能溶解鈦金屬,起到整平作用,濃度<10%,HNO3起氧化作用,防止鈦的溶解過度和吸氫,同時(shí)可產(chǎn)生光亮作用。鈦拋光液要求濃度高,溫度低,拋光時(shí)間短(1~2min)。
鈦棒
2、電解拋光
又稱為電化學(xué)拋光或者陽(yáng)極溶解拋光,由于鈦合金管的電導(dǎo)率較低,氧化性能極強(qiáng),采用有水酸性電解液如HF-H3PO4、HF-H2SO4系電解液對(duì)鈦幾乎不能拋光,施加外電壓后,鈦陽(yáng)極立刻發(fā)生氧化,而使陽(yáng)極溶解不能進(jìn)行。但采用無水氯化物電解液在低電壓下,對(duì)鈦有良好的拋光效果,小型試件可得到鏡面拋光,但對(duì)于復(fù)雜修復(fù)體仍不能達(dá)到完全拋光的目的,也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題,還有待于進(jìn)一步研究。
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